抄録
4H-SiCの表面を，XAS とXPSにより定性的に分析し，4H-SiCの研磨において，どのような反応生成物が除去されるかを推考した結果，次のような結論を得た．4H-SiCはTiO2-Cathilon水溶液に極微量溶ける．供試品を混合水溶液に浸漬すると，SiCの中に界面酸化物が生じる．混合スラリーで研磨すると，4H-SiCの表面に，酸化物，酸窒化物，窒化物が生じ，界面酸化物も生じる．28.8 nmのダイヤモンド砥粒を混入した混合スラリーで研磨すると，Raで約0.5 nm前後の粗さの面を試行的に得ることができる．
