光コヒーレンストモグラフィの製品検査技術への応用研究

抄録

光干渉の原理を応用し、対象物の断層画像を取得する技術として、光コヒーレンストモグラフィ（OCT）がある。非破壊、高空間分解能（数μm～数十μm）、計測深度が数mm程度という特徴を有し、医療分野において研究・開発が進められているが、本研究では産業分野への活用を目的としている。今回、基板などの工業製品の計測を行い、μmオーダーで3次元形状が計測できることを確認し、欠陥検査などへの適用可能性を見出した。