小型研磨機を用いたGaNの研磨加工の検討 酸化剤とpH及びUVの効果

鈴木 拓磨; 松井 伸介; 矢島 利康; 二宮 大輔; 山本 栄一

doi:10.11522/pscjspe.2019A.0_32

2019年度精密工学会秋季大会

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2019A.0_32

会議情報

主催: 公益社団法人精密工学会

会議名: 2019年度精密工学会秋季大会

開催地: 静岡大学

開催日: 2019/09/04 - 2019/09/06

小型研磨機を用いたGaNの研磨加工の検討

酸化剤とpH及びUVの効果

*鈴木拓磨, 松井伸介, 矢島利康, 二宮大輔, 山本栄一

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キーワード: GaN, 酸化剤, CMP, pH

会議録・要旨集フリー

p. 32-33

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抄録

次世代パワーデバイス用基板の材料として注目されているGaNは硬脆材料で化学的に安定なため研磨に非常に時間を必要とする．このことから，高能率で高精度なGaNの研磨加工技術の確立が要求されている.本検討では， GaNを効率的に研磨加工するため，スラリーに酸化剤を加えるとともに，pHを強い酸に調節して検討を行った．更に紫外線照射の効果も検討した．

責任著者(Corresponding author)

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