UV直接照射アシストによるGaN基板の研磨の評価

赤堀 瑞樹; 松井 伸介; 矢島 利康; 二宮 大輔; 山本 栄一; 坂東 翼; 上田 大成

doi:10.11522/pscjspe.2019A.0_30

2019年度精密工学会秋季大会

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2019A.0_30

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主催: 公益社団法人精密工学会

会議名: 2019年度精密工学会秋季大会

開催地: 静岡大学

開催日: 2019/09/04 - 2019/09/06

UV直接照射アシストによるGaN基板の研磨の評価

*赤堀瑞樹, 松井伸介, 矢島利康, 二宮大輔, 山本栄一, 坂東翼, 上田大成

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キーワード: 紫外線, GaN, CMP

会議録・要旨集フリー

p. 30-31

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抄録

次世代パワー半導体の基板材料として期待されているGaNは硬脆材料で化学的に安定であり，研磨加工が非常に難しい．そこで，GaNの研磨加工の高能率化を目的として検討を行った．本検討では，研磨面に直接UV照射を行い，研磨加工速度の検討を行った．そして，10mm×10mmの小型GaN基板と2インチのGaN基板を研磨するための研磨機を2種類試作し，研磨加工の比較を行った．さらに，スラリーのpHを変化させ，研磨加工時間の高速化の検討を行った．

責任著者(Corresponding author)

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