移動マスク露光法による異形断面を有するマイクロニードルの作製

抄録

これまでに我々は移動マスク露光と複数波長逐次露光を併用することで、フォトリソグラフィのみで2.5次元形状のマイクロニードルの作製が可能であることを示してきた。本研究ではこの方法を応用し、単一マスクパターンから作製できるマイクロニードルの断面プロファイルおよび軸方向プロファイルの自由度を大幅に拡大することに成功した。