UV直接照射アシストによるGaN基板の研磨の評価　第2報 酸化剤を用いた研磨高能率化

上田 大成; 松井 伸介; 矢島 利康; 二宮 大輔; 山本 栄一; 坂東 翼

doi:10.11522/pscjspe.2020A.0_155

2020年度精密工学会秋季大会

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2020A.0_155

会議情報

主催: 公益社団法人精密工学会

会議名: 2020年度精密工学会秋季大会

開催地: オンライン開催

開催日: 2020/09/01 - 2020/09/07

UV直接照射アシストによるGaN基板の研磨の評価　第2報

酸化剤を用いた研磨高能率化

*上田大成, 松井伸介, 矢島利康, 二宮大輔, 山本栄一, 坂東翼

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キーワード: 窒化ガリウム, 化学機械研磨, 紫外線

会議録・要旨集フリー

p. 155-156

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抄録

本検討では，GaN基板の研磨加工の高能率化を目的とし，メッシュポリシャを用いた研磨面へのUV直接照射を行い，研磨加工速度の検討を行った．UV反射型小型研磨機，UV透過型大型研磨機では研磨面の下方にUVランプを設置し透過させ照射し，大型研磨機では2インチGaN基板，小型研磨機ではGaN小型基板を使用し，研磨加工の比較を行った．さらに，スラリーのpHを変化させ，研磨加工の高能率化の検討を行った．

責任著者(Corresponding author)

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