精密工学会学術講演会講演論文集
2020年度精密工学会秋季大会
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UV-NIL可能な電子ビームレジスト材料による貫通穴の作製
*千﨑 沙彩谷口 淳岡部 貴雄森永 翔太
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p. 511-512

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抄録

UVナノインプリントリソグラフィとポジ型電子線加工の両方が可能なレジストの電子線描画特性を調査し,様々なデバイスに応用できる微細な貫通穴の作製を行った.パターンの微細性を左右する要因であるレジストの膜厚と光重合開始剤の種類について電子線描画特性を調査した.本研究では,得られた描画特性の知見から,4 µm厚のレジスト上に50 µmのホールパターンと1 µmの貫通穴の三次元複合構造の製作に成功した.

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© 2020 公益社団法人 精密工学会
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