主催: 公益社団法人精密工学会
会議名: 2020年度精密工学会秋季大会
開催地: オンライン開催
開催日: 2020/09/01 - 2020/09/07
p. 511-512
UVナノインプリントリソグラフィとポジ型電子線加工の両方が可能なレジストの電子線描画特性を調査し,様々なデバイスに応用できる微細な貫通穴の作製を行った.パターンの微細性を左右する要因であるレジストの膜厚と光重合開始剤の種類について電子線描画特性を調査した.本研究では,得られた描画特性の知見から,4 µm厚のレジスト上に50 µmのホールパターンと1 µmの貫通穴の三次元複合構造の製作に成功した.