機械的刺激によるTi/SiOx多層膜の自己伝播発熱反応の評価

吉岡 大輝; 吉木 啓介; 生津 資大; 井上 尚三

doi:10.11522/pscjspe.2020S.0_394

2020年度精密工学会春季大会

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2020S.0_394

会議情報

主催: 公益社団法人精密工学会

会議名: 2020年度精密工学会春季大会

開催地: 東京農工大学

開催日: 2020/03/17 - 2020/03/19

機械的刺激によるTi/SiO_x多層膜の自己伝播発熱反応の評価

*吉岡大輝, 吉木啓介, 生津資大, 井上尚三

著者情報

キーワード: スパッタリング, 多層薄膜

会議録・要旨集フリー

p. 394-395

詳細

抄録

Ti/Si多層膜は外部からの微小な機械刺激によって自己伝播発熱反応を生じるが，我々はSi層をSiO_x層に置き換えることで多層膜の反応性を制御できることを明らかにしてきた．本講演では，Ti/SiO_x多層膜中のTi:Si組成比やSiO_x層中の酸素組成によって反応に必要な機械刺激の大きさがどのように変化するか調査することを目的とし，多層膜に与える機械刺激を定量的に評価できる装置を試作して検討した結果を報告する．

責任著者(Corresponding author)

会議情報

J-STAGEへの登録はこちら（無料）