エバネッセント光を応用した超微粒子洗浄現象の実時間観察に関する研究

第5報：サブ50nmシリカ超微粒子観測の優位性

抄録

半導体製造工程における接触・非接触洗浄現象を光学系顕微鏡上で再現し、ナノスケール表面近傍における研磨超微粒子やサブ20 nm金粒子等の剥離・再付着挙動をエバネッセント光によって実時間で観測し、洗浄メカニズムの解明に取り組んできた。本稿では、シリカガラス基板表面に付着した標準シリカ粒子を純水中で観測し、サブ50 nm超微粒子観測ではエバネッセント光場が優位であることを検証した。