Si(111)表面上のテラス領域を自己組織的に区分けるウェットプロセスの開発

抄録

Si結晶は厚さ3nm以下に薄層化することで興味深い性質を発現すると予想されているが、未だ完全なものは作製されていない。そこで我々は、Si表面に複数の自己組織的な湿式プロセスを施す全く新しい手法による、Si原子層シートの作製を提案している。今回はその第一段階として、（111）表面を持つSi基板に提案する一連の手法を適用した。またその過程で新たに見出した課題と、解決のための取り組みについて報告する。