スペックル光リソグラフィによる段差面へのランダムパターン一括形成技術の研究

抄録

レーザ光を拡散板に当て発生したスペックル光をコリメート光学系にて平行光にして露光面に照射することで、奥行き方向の広い範囲に同一露光時間でパターン形成できると考え、実機で検証した。拡散板とウエハ間距離を最大200mm変化させても同一露光時間で数10µmサイズのほぼ同様のランダムパターンを形成することができた。また、コリメートレンズの焦点距離の変更によりパターン数を変更することもできた。