IBAD法による超硬基板上の窒化チタン薄膜の機械的特性および密着性

抄録

イオンビームアシスト蒸着（IBAD）法は，成膜中のイオン照射（イオンミキシング）により，蒸着原子と基板原子の混合層（ミキシング層）を形成する特徴があり，これにより密着性の高い薄膜を得られる方法として知られている．本研究では，IBAD法により超硬基板上にTiN薄膜を成膜し，イオンミキシングが薄膜の機械的特性と基板との密着性に及ぼす影響を明らかにした．