アクリル板と水のみによる原子レベル平坦化加工に関する研究

XPSとFTIRを用いた化学的加工メカニズムの実験的解明

抄録

PMMA樹脂と水だけを用いた、低コストで低環境負荷なスラリーレスな原子レベル平坦化加工法を開発した。水中のPMMAツールで加工した条件下でのみ加工痕が得られ、化学反応に基づく加工メカニズムであることが考えられる。本研究では、赤外分光法とX線光電子分光法を用いてPMMAツールと加工されたシリコン表面の分析を行い、加工中にPMMA表面のC-O結合が加水分解し、Si原子とC-O-Si結合が形成されることでSi原子が除去されることが示された。