Si表面上のテラス領域を自己組織的に区分けるウェットプロセスの開発

走査型プローブ顕微鏡を用いたSi表面上のステップ／テラス構造の高分解能観察

抄録

単原子レベルで薄いSi原子層シートを得るため、新たなウェットプロセスを提案したが、提案手法中にはいくつか課題が存在している。これを解決するため、非接触原子間力顕微鏡と走査型トンネル電子顕微鏡の複合装置を用いた、プロセスの性能評価に取り組んでいる。本報告では、グラファイト表面やKBrを用いて装置の基礎特性を調べた後に、提案プロセスを施したSi表面を高分解能で観察した結果について述べる。