化学工学会　研究発表講演要旨集
化学工学会第39回秋季大会
セッションID: L304
会議情報

主催: 社団法人　化学工学会

シンポジウム ＜CVD・ドライプロセス＞ (L201-L209, L213-L219, L301-L309, L313-L321)
高速回転型CVD装置を用いたGaAs成長プロセスにおけるH2/N2混合ガスキャリアの影響
*高瀬 俊朗, 宇井 明生, 玉置 直樹
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キーワード: MOCVD, CHEMKIN, rapid rotation reactor
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© 2007 社団法人　化学工学会
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