化学工学会　研究発表講演要旨集
化学工学会第39回秋季大会
セッションID: A209
会議情報

主催: 社団法人　化学工学会

シンポジウム ＜粒子・流体系分離技術の最前線＞ (A104-A109, A113-A122, A201-A209, A213-A215)
CMP用研磨スラリー(SiO2)のフィルター寿命に対する粗大粒子の影響
*渡辺 史武, 廣瀬 聡, 塚崎 和生, 角屋 正人, 沼口 徹
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キーワード: CMP slurry, classification, filter life
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© 2007 社団法人　化学工学会
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