三座フェノキシ－イミン錯体の設計およびオレフィン重合性能評価

抄録

フェノキシ-イミン配位子を有するTiおよびZr錯体は、高いオレフィン重合活性を示すことが明らかとなっているが、本錯体のエチレンとα－オレフィンとの共重合性能は充分ではなかった。そこで、共重合性の向上を狙い、従来のビス2座配位型から、フェノキシ-イミン配位子上にペンダントドナーとなるフェノキシ基を導入したモノ3座配位型の4族錯体を設計・合成した。得られた錯体について重合評価を行ったところ、高いオレフィン重合活性と高い共重合性を両立することが明らかとなった。