無電解プロセスによるシリコンの表面処理と高感度レーザー分析への応用

表面技術

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〈進歩賞〉解説

無電解プロセスによるシリコンの表面処理と高感度レーザー分析への応用

松本歩, 八重真治

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キーワード: Metal-Assisted Chemical Etching, Porous Silicon, Anodic Polarization, General Corrosion, Band Bending

ジャーナルフリー

2024 年 75 巻 2 号 p. 82-88

DOI https://doi.org/10.4139/sfj.75.82

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