無電解めっきによる微細配線応用に向けたRu膜の形成と評価

表面技術

Online ISSN : 1884-3409
Print ISSN : 0915-1869
ISSN-L : 0915-1869

解説

無電解めっきによる微細配線応用に向けたRu膜の形成と評価

新宮原正三, 濱村尚伸, 清水智弘

著者情報

キーワード: Ru, Electroless plating, Interconnection, LSI

ジャーナルフリー

2025 年 76 巻 12 号 p. 570-576

DOI https://doi.org/10.4139/sfj.76.570

詳細

記事の1ページ目

著者関連情報

© 一般社団法人表面技術協会

お気に入り & アラート

関連記事

閲覧履歴

前身誌

金属表面技術

金属表面技術現場パンフレット

実務表面技術

Top