パルス変調プラズマCVDを用いた配向性ポリシリコン薄膜形成

表面技術

Online ISSN : 1884-3409
Print ISSN : 0915-1869
ISSN-L : 0915-1869

パルス変調プラズマCVDを用いた配向性ポリシリコン薄膜形成

堀勝, 後藤俊夫

著者情報

ジャーナルフリー

2002 年 53 巻 12 号 p. 860-862

DOI https://doi.org/10.4139/sfj.53.860

詳細

記事の1ページ目

著者関連情報

© (社)表面技術協会

お気に入り & アラート

関連記事

閲覧履歴

前身誌

金属表面技術

金属表面技術現場パンフレット

実務表面技術

Top