半導体製造をはじめとした電子工業用クリーンルームでは分子状汚染物質 (以下、AMCs ; Airborne Molecular Contaminants)の制御が必要である。外気由来のAMCsについては湿式外気 処理用空気調和機を開発済みである。また本システムはAMCsの除去効果だけでなく低温排熱利 用、および精密な加湿比例制御方法を実現できることから海外でも採用されている。 本報では、 当初システム及びその後の改良機について述べ、吸収液の循環がAMCs除去率に及ぼす影響に関 する検討について報告する。