微小角入射X線散乱を用いた乳化物の塗布状態における構造解析

抄録

化粧品乳化物を塗布し乾燥した状態にして、微小角入射X線回折の手法を用いて構造解析を行った。S(= 1/d)= 0.02–0.3 nm^-1領域で測定し構造解析を行った結果、約d = 6.7 nmの構造物があることが推察された。また同一試料での経時変化について、乾燥による構造の変化を示唆する結果が得られた。