表面科学学術講演会要旨集
真空・表面科学合同講演会
(第30回表面科学学術講演会・第51回真空に関する連合講演会)
日本真空協会・社団法人日本表面科学会
セッションID: 4Ap-04
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11月4日(木)
AAOテンプレートを利用したAu/NiO/Auナノワイヤの作製と評価
*角田 譲巳ノ口 哲司新宮原 正三清水 智弘
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抄録

AAOテンプレートを利用したAu/NiO/Auナノワイヤの作製と評価 近年、ReRAM(Resistance Random Access Memory)が高速性、高記録密度、不揮発性、消費電力などの利点からユニバーサルメモリとして大きな注目を集めている。AAOテンプレートを利用して作製した微細な金属酸化物ナノワイヤを用いることにより、超高記録化が可能となる。今回Au/NiO/Au(直径70nm)ナノワイヤを作製し、電気的特性についての評価を行ったので報告する。

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© 2010 社団法人 日本表面科学会/日本真空協会
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