Si(111)表面ステップ端に形成した並列金属ナノワイヤ群に沿った有機シラン分子の選択修飾

抄録

Si(111)表面上へと異方性エッチングにより形成されるステップテラス構造を利用し、基板表面のステップ端へと容易に並列な金属ナノワイヤ群が形成されることが知られている。
本研究では、金属ワイヤ形成時の酸化・還元反応により金属ワイヤの近傍へと形成された一次元Si酸化物をテンプレートとして、有機シラン分子を基板表面へと局所的に修飾させる技術を開発した。本結果は、バイオセンシング等に展開できる将来性を有する。