AFM/STM同時測定における化学結合とトンネル電流の相関

澤田 大輔; 瀧本 遼介; 平山 直樹; 森田 健一; 杉本 宜昭; 阿部 真之; 森田 清三

doi:10.14886/sssj2008.30.0.309.0

真空・表面科学合同講演会
（第30回表面科学学術講演会・第51回真空に関する連合講演会）
日本真空協会・社団法人日本表面科学会

セッションID: 5P-064Y

DOI https://doi.org/10.14886/sssj2008.30.0.309.0

会議情報

主催: 日本真空協会、社団法人日本表面科学会

11月5日（金）

AFM/STM同時測定における化学結合とトンネル電流の相関

*澤田大輔, 瀧本遼介, 平山直樹, 森田健一, 杉本宜昭, 阿部真之, 森田清三

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抄録

AFMとSTMの同時測定は化学結合力等の力学特性と状態密度等の電子物性との相関を調べる有用な実験手法である．本研究ではSi(111)-(7x7)表面およびSi(111)-(7x7)表面上に形成したSiナノクラスター構造についてAFM/STM同時測定を行い，探針と試料表面との化学結合によって引き起こされる状態密度への影響について報告する．

責任著者(Corresponding author)

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