主催: 日本真空協会、社団法人 日本表面科学会
京大工
京大工 JST-CREST
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二次イオン質量分析法(SIMS)を用いた質量イメージングは工業や医学への応用が期待されている。しかし、従来の数keVのモノマーイオンを用いたSIMS分析では有機試料の分子構造を破壊してしまうという問題がある。我々は低損傷での照射が可能なクラスターイオンを用いたSIMSについて研究しており、今回の研究ではArクラスターSIMSを用いた高面分解能の質量イメージングを取得するための装置開発を行った。
表面科学講演大会講演要旨集
日本表面真空学会学術講演会要旨集
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