先端LSIのエッチングプロセス

抄録

ドライエッチング技術は最先端のプラズマ応用技術としてここ30年にわたり急速に進展してきた。本講演ではこれを振り返り、高密度プラズマ装置等の開発の歴史から定量的なプロセス制御技術の発展等について触れるとともに、最新のULSIデバイス開発への応用の現場と今後に向けての課題を議論する。