光電子制御プラズマによる金属表面の平坦化処理プロセスの開発

抄録

基板表面上に一様なプラズマを発生させることができる光電子制御プラズマプロセスは基板を陰極とする直流放電なので、プラズマ中で発生したArイオンは基板へと加速され衝突する。低エネルギーのArイオンの照射により大面積基板を一様に平坦化処理することが期待される。今回はある程度の表面粗さを持つように加工した2インチサイズの金属ウエハ表面にプラズマを照射し、ウエハの表面粗さがどのように変化するかをAFMで観察した。