ポリスチレンの選択的析出によるパターン作成

抄録

ポリスチレン溶液に添加剤としてキトサンや酢酸を加えることにより選択的にポリスチレンを析出させる方法を開発した。この方法は湿度によりマイクロパターンを制御することが可能であり、また容易で安価な方法のため太陽電池の表面加工や使い捨てセキュリティーシステムなど大面積や低価格を求められる用途応用することが期待される。