TOF-SIMSによる有機材料のin-situ Ar-GCIB切削断面観察

抄録

Arガスクラスターイオンビーム（Ar-GCIB)はXPSやTOF-SIMSにおける有機材料の深さ方向分析用のスパッタリングイオンとして実用化され、ここ1-2年で広く用いられるようになった。我々は、Ar-GCIBの材料加工特性に着目し、in-situでの断面加工に応用することで、TOF-SIMSによる有機材料の表面10～100μmオーダーの深さ方向の分子種の分布を調べることに成功した。この新しいアプローチの実用分析例を紹介し、効用と課題を議論する。