表面処理したアルミのガス放出特性（Ⅰ）

抄録

半導体産業界においては，デバイスの高性能化のために微細化や超薄膜化が進行しており，高い生産性を保ちながら高清浄度で高い真空性能を持つ半導体デバイス製造装置が切望されている．これらに対応可能なアウトガスを極端に少なくする真空材料用表面処理および加工処理を開発する必要がある．それに先立ち，極微量のアウトガス量を評価することが可能なアウトガス評価装置の開発をおこない，アウトガス評価をおこなった．