金薄膜と希硫酸界面の中性子反射率イメージング－反射投影の測定

抄録

白色パルス中性子を用いた中性子反射率イメージングの方法を応用し、金電極と電解質水溶液界面の電気二重層の面内の不均一な構造を解析する。その最初の実験として固液界面の反射投影プロファイルを測定した。実験はJ-PARC MLF　ML17で行った。試料は30×30×2mmtの合成石英基板上にクロムと金を順にスパッタで積層し、金スパッタに際して一部をマスクして膜厚を不均一にしたものを用いた。これを50mM硫酸を入れたセルに封入後、面内回転角を0°、90°とした時の反射投影を測定し、そのプロファイルと膜厚の不均一な分布との関係を調べた。