表面と真空
Online ISSN : 2433-5843
Print ISSN : 2433-5835
特集「2 nm世代先端半導体デバイスを支えるプロセス・実装技術」
特集「2 nm世代先端半導体デバイスを支えるプロセス・実装技術」企画趣旨
島 政英 高橋 茂樹
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2025 年 68 巻 12 号 p. 654-655

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抄録

Semiconductor technology is advancing toward the 2 nm generation, requiring breakthroughs in materials, device architectures, process technologies, and packaging. These innovations not only enhance performance but also enable progress in AI, communications, energy efficiency, and healthcare, while reinforcing semiconductors as strategic assets in global competition. Core technologies rooted in surface and interface science. This issue presents their status and prospects from diverse expert perspectives.

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