表面と真空
Online ISSN : 2433-5843
Print ISSN : 2433-5835
特集「ナノスケール相転移現象の物理と化学」
Bi(111)薄膜の表面緩和による“トポロジカル・ブロッキング”
伏屋 雄紀 , 鯉江 和希
著者情報
ジャーナル 認証あり

2026 年 69 巻 3 号 p. 159-164

詳細
抄録

In this work, we theoretically identify a phenomenon in which a slight rearrangement of atoms at a material's surface can veil its intrinsic topological character. Like donning a “quantum mask”, the surface presents a face different from the interior. This offers a clue toward resolving the long-standing debate, spanning nearly two decades, over the topology of bismuth. Our findings show that the long-held bulk-edge correspondence principle does not necessarily hold, opening a new path forward in understanding topological materials.

Fullsize Image
著者関連情報

この記事はクリエイティブ・コモンズ [表示 - 非営利 4.0 国際]ライセンスの下に提供されています。
https://creativecommons.org/licenses/by-nc/4.0/deed.ja
前の記事 次の記事
feedback
Top