主催: 画像電子学会
(株)沖データ / ロチェスター工科大学 Guest Scientist, Dr. Eng.
ロチェスター工科大学 マンセル色彩科学研究所
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色順応は、100年以上前にvon Kriesにより研究がなされ、今日においてもこの研究を基盤とした種々のモデルが研究されている。しかしながら、基盤をなすvon Kriesモデルにおいても、いまだに明確にされていない重要な課題は存在している。本稿では、既に我々が減法混色分野において導出している定理群を、色順応分野に適用することで、von Kriesモデルにおける重要検討課題についての基礎的な考察を行う。
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