原子間力顕微鏡(AFM)により解析した熱応力に起因するラインレジストパターンの剥離特'性

抄録

微細素子の形成技術において，レジストパターンの付着性の改善は重要課題として位置付けられている。ライン形状のレジストパターンを熱処理することにより，パターン先端に熱応力が集中する｡原子間力顕微鏡(AFM)を用いてパターンを剥離したところ，パターン先端が剥離しやすいことを確認した。有限要素解析を用いて，パターン内の熱応力と剥離性との相関を確認した。