抄録
シリカガラスの照射効果についてはこれまで広く研究されており、シリカガラス内に生成する欠陥の種類、生成過程、また光学的性質についての多くの報告がある。照射に伴う試料内の欠陥生成には入射粒子（光子、中性子、荷電粒子）が引き起こす電子励起効果と原子弾き出し効果が密接に関連していることが知られている。しかし、照射中の試料の、周囲の環境（ガス、試料容器（材料）等）から発生する二次電子・光子或いはX線が欠陥生成に与える影響についてはこれまで系統的な研究は行われていない。本研究の目的は、γ線照射下にあるシリカガラス内で起こる照射効果に周囲の環境からの二次電子・光子或いはX線がどのような影響を及ぼすかを明らかにすることである。
