ハイパワーパルスイオンビームによる材料表面汚染除去技術の研究

抄録

大強度パルスイオンビームをステンレス試料に照射し、表面汚染層を剥離させて除去する手法の基礎研究を行った。ビームの発生源として誘導線型加速器を採用し、パルス幅400ns、エネルギー120keV、電流密度1A/cm²の炭素イオンビームを得た。繰り返し照射により周期的に熱応力を加えて、炭素注入層から汚染された表面層を剥離する可能性を調べた。