日本原子力学会 年会・大会予稿集
2012年春の年会
セッションID: K53
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除染技術
七フッ化ヨウ素ガスを用いた系統除染に関する基礎的研究
(3) ウラン化合物付着メカニズム解明のための活性化エネルギー評価
*横山 薫秦 はるひ高橋 信雄杉杖 典岳百武 徹笹倉 万里子箕輪 弘嗣
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抄録
七フッ化ヨウ素を用いた除染手法は、ウラン濃縮プラントや転換プラントのような、ウランフッ化物(代表的な化合物=六フッ化ウラン)を取り扱った施設の系統除染手法として知られている。本報告では、UF6が複雑な中間生成物を経てUF4へと化学変化を行うという推定のもと、UF4が吸着した表面に対してUF6が入射した際の化学吸着現象の解析を分子動力学法(MD法)で行い、リファレンス情報として整理した吸着量をもとに、UF6が壁面で化学反応を行うための活性化エネルギーを特定した結果を報告する。
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© 2012 一般社団法人 日本原子力学会
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