エレクトロニクス実装学術講演大会講演論文集
第17回エレクトロニクス実装学術講演大会
セッションID: 12A-14
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銅のアノード溶解に及ぼす添加剤の影響
津留 豊*徳永 純一
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抄録
硫酸酸性浴からの銅電析に際し、アノードでのCu+およびCu微粒子の生成について、銅のアノード溶解に及ぼす添加剤の影響を明らかにする。アノード溶解法には回転円盤電極を使用し、銅溶解時の溶解電流変化により添加剤の影響を調べた。また、銅溶解時における各種添加剤の電気化学的特性を調べるとともにCu+およびCu微粒子の生成防止法について探った。これらの結果から、Cu微粒子の生成が浴劣化の原因となることが明らかになった。
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© 2003 一般社団法人エレクトロニクス実装学会
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