エレクトロニクス実装学術講演大会講演論文集
第17回エレクトロニクス実装学術講演大会
セッションID: 12A-15
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乱流場における回路用銅箔のウェットエッチング
*鈴木 貴晴松村 和俊松本 克才谷口 尚司
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キーワード: エッチング, , 物質移動, 拡散
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抄録
銅箔回路の一般的な製造法の一つであるウェットエッチングおいて、エッチング速度とキャビティ形状に着目し、これらに影響を与える因子について実験的、理論的に考察した。実験は塩化第二鉄を用い、液側物質移動特性が既知の撹拌槽およびスプレーの2つの乱流場において行った。また、境膜説に基づく物質移動モデルを構築し、実験との比較検討を行った。
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© 2003 一般社団法人エレクトロニクス実装学会
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