分子プレカーサー法を用いたチタン基板上へのアパタイト薄膜形成　その１　‐焼成温度による影響‐

抄録

新規薄膜形成法である分子プレカーサー法は，従来から知られているゾル-ゲル法やスパッタリング法に比べ，基板にコート溶液を塗布し焼成を行うといった，より簡便な工程で均一かつ高純度の薄膜を形成することが出来る．本研究では，分子プレカーサー法を用いてチタン上にヒドロキシアパタイト薄膜を形成し，焼成温度が薄膜形成に与える影響について検討すると同時に薄膜のキャラクタリゼーションを行った．