電気学会論文誌Ｃ（電子・情報・システム部門誌）
Online ISSN : 1348-8155
Print ISSN : 0385-4221
ISSN-L : 0385-4221
Si系材料薄膜の高度評価技術
SiO2/Si界面構造への適用例
服部 健雄
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キーワード: 評価技術, SiO2/Si界面, 遷移領域, 不完全構造, 界面構造の安定性
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1992 年 112 巻 11 号 p. 641-647

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