電気学会論文誌Ａ（基礎・材料・共通部門誌）
Online ISSN : 1347-5533
Print ISSN : 0385-4205
ISSN-L : 0385-4205
プラズマCVD堆積SiO2薄膜の絶縁破壊電界におよぼすフッ素添加の効果
加藤 宙光, 高見 明宏, 酒井 真吾, 石井 啓介, 大木 義路
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キーワード: プラズマCVD, 絶縁破壊, シリコン酸化膜
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1999 年 119 巻 5 号 p. 658-664

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