抄録
酸化マグネシウム(MgO)薄膜はディスプレイなどの保護膜や反射防止膜として、開発要望が高いが、現在その作製方法の大半は、真空状態で行う装置を用いなければならない手法である。これは、大気圧下で酸化マグネシウム(MgO)薄膜を作製する場合、500℃程度の高温状態が必要であり、ガラス基板へ直接成長が困難であるという理由が大きいからであると考えられる。そこで我々はミストデポジション法を用いてガラス基板上へ酸化マグネシウム(MgO)薄膜の作製を試みた。ミストデポジション法は、大気圧下で金属酸化物薄膜の成長が可能であり、これまでに酸化亜鉛(ZnO)、酸化ガリウム(Ga_2O_3)、酸化錫(SnO)、酸化インジウム(In_2O_3)、酸化鉄(Fe_2O_3)等の作製に成功している。本発表では、酸化マグネシウム(MgO)薄膜の作製方法や結晶性などについて報告する。
