スパッタ薄膜のナノ構造生成過程へのトータルシミュレーションの適用

石田 雅信; 山村 泰道

doi:10.11345/japannctam.53.0.115.0

第53回理論応用力学講演会　講演論文集

セッションID: 3B2

DOI https://doi.org/10.11345/japannctam.53.0.115.0

会議情報

主催: 日本学術会議　メカニクス・構造研究連絡委員会

共催: 応用物理学会, 化学工学会, 九州大学応用力学研究所, 土木学会, 日本応用数理学会, 日本風工学会, 日本機械学会, 日本気象学会, 日本計算工学会, 日本建築学会, 日本原子力学会, 日本航空宇宙学会, 日本地震工学会, 日本数学会, 日本造船学会, 日本物理学会, 日本流体力学会, 日本レオロジー学会, 農業土木学会

OS19：ナノテクの数理とその手法

スパッタ薄膜のナノ構造生成過程へのトータルシミュレーションの適用

*石田雅信, 山村泰道

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抄録

スパッタ薄膜のナノ構造の形成制御を工業化に結びつけるためには，微小構造の形成過程とプロセス解析というスケールの異なった解析が必要である。本講演ではスパッタリング過程を数値解析を用いて再現することで，プロセスからナノ構造制御まで可能とするトータルシミュレーションの構築について報告する

責任著者(Corresponding author)

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