The Journal of JASTRO
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Syed-Neblettテンプレートを用いた経会陰的高線量率組織内照射の問題点
伊丹 純原 竜介小塚 拓洋中島 香織山下 英臣阿部 容久
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2001 年 13 巻 2 号 p. 73-77

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抄録
Syed-Neblettテンプレートを使用した経会陰的低線量率組織内照射に関しては報告されているものの, 隅様の組織内照射を高線量率で施行したものは余り報告されていない. 今回, Syed-Neblettテンプレートを使用した経会陰的高線量率Ir-192組織内照射の実際の方法に関して述べた. 更に, テンプレートにアプリケータを配置して理想的な状態での高線量率組織内照射での膣粘膜線量を, geometrical optimizationと均一線源滞留時閥で算出した. Ir-192線源移動は全て1cmつつとし, Referencel lneは最外側アプリケータの外側5mmに設定し, そこに平均6Gyを照射するとした. 使用アプリケータ本数の増加や線源滞留位置の相違にかかわらず, geometrical optimizationを施行すれば膣粘膜線量は8Gy程度に揮えられる. 更にタンデムとvaginal obturator周囲アブリケータを同時に使用しても膣鮎膜線量は上昇しない. またgeometrical optimization施行例では, dosehomogeneity indexで線量分布の均一性が高いことが示された. Syed-Neblettテンプレートを期いた経会陰的高線量率組織内照射では, タンデムとvaginalobturator周囲線源を同時に使用可能であると思われる.
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© 1994 The Japanese Society for Therapeutic Radiology and Oncology
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