磁性薄膜パターンにおける外部磁界による磁化率制御

樋口 雅人; 張 明; 田中 輝光; 能崎 幸雄; 松山 公秀

doi:10.11527/jceeek.2009.0.573.0

平成21年度電気関係学会九州支部連合大会（第62回連合大会）講演論文集

セッションID: 13-2A-09

DOI https://doi.org/10.11527/jceeek.2009.0.573.0

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主催: 電気関係学会九州支部連合会

磁性薄膜パターンにおける外部磁界による磁化率制御

樋口雅人, 張明, 田中輝光, 能崎幸雄, 松山公秀

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キーワード: マグネティックス

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抄録

一軸磁気異方性を有する軟磁性薄膜の磁化率は外部磁界の印加により変化させることが可能である．これを高周波デバイスに利用することで従来の空心集積化インダクタでは困難だったインダクタンスの変調によるインピーダンスマッチングや発振周波数の制御が実現可能である．本研究では、デバイスの小型集積化を念頭に軟強磁性薄膜を微細加工し、印加磁界の方向・強度による磁化率の制御を試みたので報告する．

責任著者(Corresponding author)

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