抄録
プラズマプロセスを用いた薄膜の作製においては、一般的にバルク（固体）ターゲットを用いられ、これは材料粉末を高温で焼き固める焼結法を用いて作製される。しかし、加熱により変質する有機材料ではバルクターゲットの作製が困難であることや、精密な組成比を有する磁性体材料では組成比の組み合わせを変化させる毎に新しいターゲットが必要となるため、材料利用効率や経済面の問題がある。これらの問題を解決するために本研究では、材料粉末をそのままターゲットとして用いて薄膜の作製を行った。本研究では、酸化チタン（TiO2）粉末を用いてレーザアブレーション法による成膜を行い、バルクターゲット使用時との比較検討を行った。
