抄録
炭素で構成されるアモルファス状の膜は，化学的・機械的に安定であり，低温で成膜可能であり，さらにこの膜の表面を修飾することにより，新たな性質を付加できることから，ますますその用途は拡大している。現在では，これまで以上に，原子レベルで制御して，成膜および表面処理を行う必要が生じている。これまでメタン(CH4)を原料として用いた場合の成膜過程や表面反応過程を調べてきた。今回，エチレン(C2H4)を原料として用いた場合，成膜速度の飛躍的な上昇や膜質の変化を確認することが出来た。また，成膜過程および膜表面での反応過程について，多重内部反射赤外吸収分光法を用いて詳細にしらべたので，報告する。
